水中氟離子為何必須嚴(yán)檢？不要忽視這個(gè)半導(dǎo)體行業(yè)的“隱形殺手”！

更新時(shí)間：2026-02-03 點(diǎn)擊次數(shù)：29

半導(dǎo)體芯片制造中，高純度水是核心輔料，貫穿晶圓清洗、蝕刻等全流程。而水中微量氟離子，堪稱影響產(chǎn)品品質(zhì)、威脅環(huán)境的“隱形殺手"，其精準(zhǔn)檢測(cè)是行業(yè)需要的技術(shù)環(huán)節(jié)。

氟離子從哪來？半導(dǎo)體生產(chǎn)的“必然產(chǎn)物"

氟離子是半導(dǎo)體生產(chǎn)的必然工藝副產(chǎn)物。含氟試劑廣泛用于晶圓蝕刻、清洗，未全反應(yīng)的氟化物會(huì)混入廢水，成為氟離子主要來源。

此外，冷卻劑、清洗劑等輔料也可能含氟，導(dǎo)致氟離子在水循環(huán)系統(tǒng)累積。無論是工藝廢水還是回用超純水，氟離子都需嚴(yán)格管控。

氟離子檢測(cè)重要性

對(duì)生產(chǎn)：微米級(jí)誤差的“元兇"

納米級(jí)制程對(duì)水質(zhì)要求高，低濃度氟離子也會(huì)引發(fā)問題：腐蝕晶圓金屬薄膜與絕緣層，導(dǎo)致電路缺陷、良品率下降；同時(shí)干擾光刻等后續(xù)工藝精度。

回用水中氟離子超標(biāo)會(huì)形成“污染循環(huán)"，晶圓廠通常將其內(nèi)控濃度設(shè)為0.1mg/L以下，遠(yuǎn)超常規(guī)排放標(biāo)準(zhǔn)。

對(duì)環(huán)保：多重標(biāo)準(zhǔn)的“嚴(yán)格約束"

氟化物有毒且易累積，不當(dāng)排放會(huì)污染水土、危害人體健康。國(guó)內(nèi)外已出臺(tái)嚴(yán)格標(biāo)準(zhǔn)，管控半導(dǎo)體行業(yè)氟離子排放。

國(guó)標(biāo)GB39731-2020規(guī)定，氟化物直接排放限值10mg/L、間接排放20mg/L；地方標(biāo)準(zhǔn)更嚴(yán)，以上海DB31/199-2018為例，直接排放限值收緊至8mg/L，還強(qiáng)制在線監(jiān)測(cè)設(shè)備具備校準(zhǔn)、數(shù)據(jù)存儲(chǔ)及遠(yuǎn)程傳輸功能，超標(biāo)將面臨重罰。

半導(dǎo)體行業(yè)常見水中氟離子檢測(cè)技術(shù)

檢測(cè)技術(shù)	核心優(yōu)勢(shì)	適配場(chǎng)景
氟離子選擇電極法	符合國(guó)標(biāo)GB/T 7484-2012，檢測(cè)下限0.01mg/L，精度高、適用性廣	離線校準(zhǔn)、在線監(jiān)測(cè)通用，適配超純水、工藝廢水場(chǎng)景
離線實(shí)驗(yàn)室檢測(cè)	數(shù)據(jù)精準(zhǔn)，可控制干擾因素，支撐工藝優(yōu)化	設(shè)備校準(zhǔn)、工藝調(diào)整，需滿足平行樣偏差≤10%要求
在線實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)技術(shù)	連續(xù)監(jiān)測(cè)、實(shí)時(shí)傳數(shù)，符合環(huán)保強(qiáng)制要求	廢水總排口、處理設(shè)施進(jìn)出口，適配復(fù)雜工況

其中分光光度法、離子色譜法因精度或成本問題，在半導(dǎo)體行業(yè)較少用于量產(chǎn)工藝監(jiān)測(cè)，僅作特殊樣品驗(yàn)證。

在線氟離子水質(zhì)分析儀PM8202I

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